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采購訂單編號：No.7919 發(fā)布時間：2021-01-27
伯東KRI考夫曼離子源KDC 160輔助鍍制 HfO2 薄膜
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采購訂單編號：No.7918 發(fā)布時間：2021-01-27
射頻離子源RFICP 380持續(xù)轟擊TiN薄膜獲得更優(yōu)秀性能
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采購訂單編號：No.7917 發(fā)布時間：2021-01-27
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采購訂單編號：No.7916 發(fā)布時間：2021-01-27
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采購訂單編號：No.7915 發(fā)布時間：2021-01-27
伯東KRI離子源輔助蒸發(fā)沉積鍍鋁膜, 改善鋁膜結(jié)構(gòu)及耐腐蝕性
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采購訂單編號：No.7914 發(fā)布時間：2021-01-27
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采購訂單編號：No.7913 發(fā)布時間：2021-01-27
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采購訂單編號：No.7912 發(fā)布時間：2021-01-27
考夫曼離子源 KRI 創(chuàng)始人 Harold Kaufman
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采購訂單編號：No.7911 發(fā)布時間：2021-01-27
KRI 霍爾離子源 EH5000F 用于大尺寸光學(xué)蒸鍍機
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采購訂單編號：No.7910 發(fā)布時間：2021-01-27
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采購訂單編號：No.7909 發(fā)布時間：2021-01-27
KRI離子源輔助鍍膜IAD時,霍爾離子源和考夫曼離子源哪個好
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采購訂單編號：No.7908 發(fā)布時間：2021-01-27
KRI 離子源用于清潔聚合物表面時, 如何選擇應(yīng)用的氣體
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采購訂單編號：No.7907 發(fā)布時間：2021-01-27
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采購訂單編號：No.7906 發(fā)布時間：2021-01-27
考夫曼射頻離子源RFICP380 在磁控濺射玻璃鍍膜中的應(yīng)用
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采購訂單編號：No.7905 發(fā)布時間：2021-01-27
考夫曼平行型離子源RFICP220輔助DC/DC混合電路生產(chǎn)
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采購訂單編號：No.7904 發(fā)布時間：2021-01-27
伯東KRI考夫曼射頻離子源RFICP140用于鍍制TiN薄膜
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采購訂單編號：No.7903 發(fā)布時間：2021-01-27
伯東 KRI考夫曼霍爾離子源 eH 3000用于玻璃基片清洗
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采購訂單編號：No.7902 發(fā)布時間：2021-01-27
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源在 PCB 鉆頭銑刀上的應(yīng)用
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采購訂單編號：No.7901 發(fā)布時間：2021-01-27
考夫曼射頻離子源RFICP 220 用于鐘表行業(yè)鍍制納米薄膜
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采購訂單編號：No.7900 發(fā)布時間：2021-01-27
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