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KRI考夫曼射頻離子源RFICP140應用AlTiN涂層研究
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KRI考夫曼射頻離子源RFICP220濺射制備堵片傳感器薄膜
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考夫曼射頻離子源RFICP220濺射制備類金剛石Ta-C涂層
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考夫曼射頻離子源RFICP220輔助磁控濺射沉積Cu-W 膜
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伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 應用于離子刻蝕 IBE
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伯東KRI 霍爾離子源 EH400 HC用于離子刻蝕 IBE
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KRI霍爾離子源EH 3000HC用于輔助天文望遠鏡鏡片鍍膜
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KRI霍爾離子源EH 4200輔助鍍膜IBAD用于PC預清潔
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伯東 KRI Gridded 考夫曼離子源用于離子束拋光工藝
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伯東KRI射頻離子源RFICP 325輔助LED-DBR鍍膜
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EH 3000HC應用于天文望遠鏡片離子輔助鍍膜工藝IBAD
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射頻離子源RFICP 380輔助離子束濺射鍍制SiO_2薄膜
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KRI射頻離子源RFICP 220輔助磁控濺射鍍制3D玻璃膜
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