伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 系列已廣泛被應(yīng)用于離子刻蝕 (IBE) 工藝.

伯東 KRI 離子源考夫曼離子源具有高離子濃度 (High beam currents) 及低離子能量 (Low beam energies). 此兩個(gè)特殊條件對于刻蝕效率及刻蝕中避免傷害到工件表面材質(zhì)可以達(dá)到優(yōu)化. 并且可以依客戶之工件尺寸選擇所對應(yīng)之型號: 射頻離子源 RFICP 380, 射頻離子源 RFICP 220, 射頻離子源 RFICP 140, 射頻離子源 RFICP 100, 射頻離子源 RFICP 40

伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (美國考夫曼公司) KRI 離子源大中國區(qū)總代理.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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