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某國內玻璃制造商采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP380 離子清洗技術清除沉積在靶面和陽極表面的反應產物, 如氧化物, 從而保持靶和陽極表面導電性, 避免發生”靶中毒”和”陽極消失”現象.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380 技術參數：
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portant;">
射頻離子源型號 |
portant;">
RFICP 380 |
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portant;">
Discharge 陽極 |
portant;">
射頻 RFICP |
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portant;">
離子束流 |
portant;">
>1500 mA |
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portant;">
離子動能 |
portant;">
100-1200 V |
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portant;">
柵極直徑 |
portant;">
30 cm Φ |
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portant;">
離子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
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portant;">
流量 |
portant;">
15-50 sccm |
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portant;">
通氣 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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portant;">
典型壓力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
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portant;">
長度 |
portant;">
39 cm |
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portant;">
直徑 |
portant;">
59 cm |
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portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
推薦理由：
1. 使用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP 380 可以準確、靈活地對樣品選定的區域進行清洗
2. 功率大, 離子束流高, 滿足客戶工藝要求
3. 清洗速率快
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工作原理:
在真空室充入 100sccm 的氬氣, 利用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP380 把氬氣電離, 形成離子體, 利用氬離子撞擊靶面, 從靶面上撞出錫原子或氧化錫分子, 完成對錫靶的清潔. 撞擊出來的錫原子撞擊陽極表面, 清除吸附陽極表面與表層銦結合力不強的部分氧化錫分子, 完成對陽極表面的清洗.
其清洗實施工作圖如下:
一次清洗大約用時15s, 前5秒主要清潔靶面, 后10秒清潔陽極表面.
運行結果：
有效的清潔陰極靶面和陽極表面, 保持陰極靶面和陽極表面良好的導電性, 避免發生”靶中毒”和”陽極消失”現象
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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