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傳統(tǒng)直接蒸發(fā) HfO₂塊材料, 容易產(chǎn)生節(jié)瘤缺陷, 吸收很大, 限制了薄膜的激光損傷閾值, 因此, 為了獲取高質(zhì)量的 HfO₂薄膜, 某機構采用 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 輔助鍍制 HfO₂薄膜.

客戶的樣品基底材料為 K9 玻璃, 靶材為 HfO₂塊材料, 運行的離子源偏壓為 90V.

KRI 考夫曼離子源 KDC 160

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術參數(shù):

portant;"> 離子源型號	portant;"> 離子源 KDC 160
portant;"> Discharge	portant;"> DC 熱離子
portant;"> 離子束流	portant;"> >650 mA
portant;"> 離子動能	portant;"> 100-1200 V
portant;"> 柵極直徑	portant;"> 16 cm Φ
portant;"> 離子束	portant;"> 聚焦, 平行, 散射
portant;"> 流量	portant;"> 2-30 sccm
portant;"> 通氣	portant;"> Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
portant;"> 典型壓力	portant;"> < 0.5m Torr
portant;"> 長度	portant;"> 25.2 cm
portant;"> 直徑	portant;"> 23.2 cm
portant;"> 中和器	portant;"> 燈絲

* 可選: 可調(diào)角度的支架

應用結果：

通過使用伯東 KRI 考夫曼離子源 KDC 160 在偏壓為 90V 時, 制造得到的HfO₂ 薄膜晶粒減小, 膜結構更均勻, 緩解了激光能量的局部聚焦, 因此具有較高的損傷閾值.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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