光化學(xué)離子反應(yīng)除臭設(shè)備描述

一、廢氣處理利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體物質(zhì)分子鍵，裂解惡臭氣體物質(zhì)如：氨、甲硫氫、二硫化碳和，硫化物H2S、VOC類，苯的分子鍵，使呈游離狀態(tài)的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。

二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而生成臭氧；臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合，生成新的、無害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等，同時，臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。

三、惡臭氣體（工業(yè)廢氣）利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本UV光解凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同裂解、氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的。

五、適用范圍：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。

產(chǎn)品性能綜述

一、高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99.9%以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準（GB14554-93）。

二、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使惡臭氣體通過本設(shè)備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

三、適應(yīng)性強：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。

四、運行成本低：本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.1度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低＜30pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。

五、無需預(yù)處理：惡臭氣體無需進行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30o?95o之間，濕度在40%?98%之間均可正常工作。＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

六、優(yōu)質(zhì)防腐材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。