掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件制造業(yè)批量生產(chǎn)，是下游行業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。

掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機(jī)的“底片”，其工作原理如下：根據(jù)客戶所需要的圖形，掩膜版廠商通過光刻制版工藝，將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上，掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細(xì)光掩膜圖形的感光空白板，再將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版產(chǎn)成品。掩膜版對(duì)下游行業(yè)生產(chǎn)線的作用主要體現(xiàn)為利用掩膜版上已設(shè)計(jì)好的圖案，通過透光與非透光的方式進(jìn)行圖像（路圖形）復(fù)制，從而實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。

掩膜板產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、低開模費(fèi),可以按設(shè)計(jì)人員的設(shè)計(jì)要求進(jìn)行掩膜圖形任意更改，成本低

2、能實(shí)現(xiàn)金屬的半刻，增加公司LOGO，實(shí)現(xiàn)品牌化生

3、可達(dá)+/-0.0075mm的精度，滿足不同產(chǎn)品的組裝要求

4、復(fù)雜外形產(chǎn)品同樣可以蝕刻，無需額外增加成本

5、沒有毛刺，壓點(diǎn)，產(chǎn)品不變形,不改變材料性質(zhì)，不影響產(chǎn)品的功能

6、厚薄材料都可以一樣加工，滿足不同裝配組件的要求

7、幾乎所有金屬都能被蝕刻，對(duì)各種圖案設(shè)計(jì)無限制

8、制造各類機(jī)械加工所無法完成的金屬部件

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