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試驗設(shè)備:
伯東 KRI 聚焦射頻離子源 RFICP 220 進行濺射, 選用 ZAO 陶瓷靶, 基片為普通玻璃, 普發(fā) Pfeiffer 旋片泵 Duo 3.
工藝要求:
靶與基片距離為5cm, 濺射時間為30 min
伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 220 技術(shù)參數(shù):
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portant;">
離子源型號 |
portant;">
RFICP 220 |
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portant;">
Discharge |
portant;">
RFICP 射頻 |
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portant;">
離子束流 |
portant;">
>800 mA |
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portant;">
離子動能 |
portant;">
100-1200 V |
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portant;">
柵極直徑 |
portant;">
20 cm Φ |
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portant;">
離子束 |
portant;">
聚焦 |
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portant;">
流量 |
portant;">
10-40 sccm |
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portant;">
通氣 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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portant;">
典型壓力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
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portant;">
長度 |
portant;">
30 cm |
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portant;">
直徑 |
portant;">
41 cm |
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portant;">
中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
推薦理由:
聚焦型射頻離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
在整個實驗工藝中工作氣壓保持在 3x 10-1Pa, 因此采用伯東 Pfeiffer 旋片泵 Duo 3.
伯東 Pfeiffer 旋片泵 Duo 3 技術(shù)參數(shù)如下:
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
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