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伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):
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portant;">
離子源型號 |
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RFICP220 |
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portant;">
Discharge |
portant;">
RFICP 射頻 |
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portant;">
離子束流 |
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>800 mA |
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portant;">
離子動能 |
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100-1200 V |
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portant;">
柵極直徑 |
portant;">
20 cm Φ |
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離子束 |
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聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
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10-40 sccm |
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通氣 |
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
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< 0.5m Torr |
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長度 |
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30 cm |
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直徑 |
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41 cm |
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中和器 |
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LFN 2000 |
客戶清洗的工作流程:
在真空狀態(tài)下, 利用射頻源將氬氣電離成高能量的離子去撞擊LED上的有機(jī)污染物及微顆粒污染物, 從而使得污染物被轟擊除掉.
為了避免二次污染, 該清洗工藝, 真空度要求10-7 hPa, 客戶采用的是伯東Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 1800 UC, 該型號可以倒裝和抗腐蝕,
伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 1800 技術(shù)參數(shù)：
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分子泵型號 |
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接口 DN |
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抽速 l/s |
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壓縮比 |
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最高啟動壓強(qiáng)mbar |
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極限壓力 |
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全轉(zhuǎn)速氣體流量hPa l/s |
portant;">
啟動 |
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重量 |
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進(jìn)氣 |
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排氣 |
portant;">
氮?dú)?br /> N2 |
portant;">
氦氣He |
portant;">
氫氣 H2 |
portant;">
氮?dú)?br /> N2 |
portant;">
氮?dú)釴2 |
portant;">
hPa |
portant;">
氮?dú)釴2 |
portant;">
min |
portant;">
kg |
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portant;">
Hipace 1800 UC |
portant;">
200 |
portant;">
40 |
portant;">
1,450 |
portant;">
1,650 |
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1,700 |
portant;">
> 1X108 |
portant;">
1.8 |
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< 1X10–7 |
portant;">
20 |
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4 |
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33 – 34 |
運(yùn)行結(jié)果:
1. 從下圖離子射頻清洗氧化膜前后對比可以看出, KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 有效的清洗除去污染物
從使用和未使用離子清洗的拉力強(qiáng)度對比, 使用離子清洗后鍵合引線拉力強(qiáng)度有明顯增加
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.
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