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考夫曼射頻離子源RFCIP220輔助濺射制備GdF3光學薄膜

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   GdF3光學薄膜擁有優(yōu)異的光學性能在深紫外光學薄膜中有廣泛應用193nm投影光刻為例其系統(tǒng)有30~40個光學元件且部分元件口徑高達 400mm,為了使系統(tǒng)高質(zhì)量成像不僅要求制備的薄膜具有極高的透過率和良好的抗激光損傷能力而且為了膜厚均勻性控制提出了極高的要求.

 

因此某光學薄膜制造商采用KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP220 和射頻離子源 FRICP140輔助濺射制備GdF3光學薄膜以求獲得透過率高且良好抗激光損傷能力的均勻性的GdF3光學薄膜.

 

客戶離子束濺射系統(tǒng)裝置圖如下圖:

 

其中用于濺射的離子源為 20cm KRI 射頻離子源 RFICP220, 輔助離子源為12cmKRI 射頻離子源 RFICP140.

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

portant;">

離子源型號

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RFICP220

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Discharge

portant;">

RFICP 射頻

portant;">

離子束流

portant;">

>800 mA

portant;">

離子動能

portant;">

100-1200 V

portant;">

柵極直徑

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20 cm Φ

portant;">

離子束

portant;">

聚焦平行散射

portant;">

流量

portant;">

10-40 sccm

portant;">

通氣

portant;">

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

portant;">

典型壓力

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

長度

portant;">

30 cm

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直徑

portant;">

41 cm

portant;">

中和器

portant;">

LFN 2000

可選燈絲中和器可變長度的增量

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):

portant;">

型號

portant;">

RFICP140

portant;">

Discharge

portant;">

RFICP 射頻

portant;">

離子束流

portant;">

>600 mA

portant;">

離子動能

portant;">

100-1200 V

portant;">

柵極直徑

portant;">

14 cm Φ

portant;">

離子束

portant;">

聚焦平行散射

portant;">

流量

portant;">

5-30 sccm

portant;">

通氣

portant;">

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

portant;">

典型壓力

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

長度

portant;">

24.6 cm

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直徑

portant;">

24.6 cm

portant;">

中和器

portant;">

LFN 2000

 

工藝簡介:

離子源工作氣體為Xe, NF3作為輔助氣體反應濺射靶材為金屬Gd.

KRI 射頻離子源 RFICP220 主要是用于產(chǎn)生高能Xe離子束轟擊靶材通過動量傳遞使靶材原子獲得足夠的動能而脫離靶材表面射向基板在基板的上沉積而形成一層薄膜另一個輔助離子源(KRI 射頻離子源 RFICP140)通入NF3, 通過對生長中的薄膜的轟擊使得薄膜進一步致密同時改善薄膜的化學性能.

 

運行結(jié)果:

KRI 考夫曼射頻離子源輔助濺射制備GdF3光學薄膜具有極高的透過率和良好的抗激光損傷能力而且膜厚均勻性良好.

 

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

 

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上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
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